Шаблоны и расходные материалы - ЭМТИОН АСМ/Раман, SPECTRA, AFM, SPM
Шаблоны и расходные материалы

ЭМТИОН

Шаблоны и расходные материалы для наноимпринтной литографии

Описание Шаблоны и расходные материалы

В соответствии с требованиями к шаблону для различных масштабов и эффективных областей, мы применяем различные процессы для создания шаблонов, включая ультрафиолетовую литографию, лазерную литографию, литографию Phable, электронно-лучевую литографию, нано-импринтинг и др. В то же время мы поставляем PDMS шаблоны, композитные PDMS шаблоны и металлические шаблоны из никеля в соответствии с различными технологическими потребностями. Мы также создали библиотеку шаблонов нано-импринтинга, и существует более 100 шаблонов спецификаций для обеспечения всесторонней поддержки пользователей.

 

 

Мягкий композитный (HNSL) шаблон применяется для работы с твердыми материалами, такими как кремний и кварц. Никелевый металлический шаблон применяется для процесса прямого горячего тиснения термопластичных образцов, таких как PMMA/PET и других жестких или гибких полимерных материалов.

Процесс литографии с использованием мягких HNSL и DTUCN-композитов, а также процесс литографии с использованием двойного переноса при облучении образца ультрафиолетом, подходят для изогнутых и других сложных поверхностей.

 

Расходные материалы для наноимпринт литографии
  • Клей для горячей наноимпринт литографии – температура 120 ℃, разрешение менее 10 нм;
  • Кислородостойкий, стойкий к травлению, УФ-отверждаемый адгезив: разрешение оттиска <5 нм, аспектное отношения при кислородном травлении > 40;
  • Быстрая репликационная литография: УФ-отверждение, разрешение <10 нм, быстрое копирование шаблона
  • Материал слоя переноса (снятия)

 

Может быть полезно:

NIL-150/200

В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, […]

Запрос цены Подробнее
NIL-100

В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, […]

Запрос цены Подробнее

Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы