Описание NIL-100

В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, появилась технология нанопечатной литографии (Nanoimprint Lithography или наноимпринт литография) которая обладает такими характеристиками, как высокое разрешение, низкая стоимость и высокий ресурс. Наноимпринтная литография (НИЛ) включает в себя множество технологий импринтинга, которые широко используются в производстве полупроводников, МЭМС (MEMS), биочипов, биомедицине и других областях.

Основная идея НИЛ (NIL) – передать изображение на соответствующую подложку через шаблон. Среда переноса обычно представляет собой очень тонкую полимерную пленку, структура которой упрочняется горячим прессованием или облучением для сохранения перенесенного изображения. NIL можно разделить на горячее тиснение, ультрафиолетовое отверждение и микроконтактную печать (μCP) в соответствии с различными методами проведения наноимпринт литографии.

Основные особенности установки:

• Компактный дизайн;
• Сверхвысокое разрешение (≤5 нм);
• Максимальный размер образца – 3 дюйма / 4 дюйма (75/100мм);
• Полностью автоматизированная печать;
• Подойдет для небольших лабораторий и учебных центров.