Китай
Толщиномер пленки. Образцы до 200 мм, спектр 193 - 2500 нм
EH100 – это прибор общего назначения для измерения толщины пленки, являющийся экономичным решением в промышленности и научных исследованиях. Прибор управляется одной кнопкой и может измерять толщину прозрачных или полупрозрачных пленок толщиной от нескольких нанометров до сотен микрон.
Измеритель толщины пленок EH100 работает на основе принципа интерференционной спектроскопии. Свет падает перпендикулярно на поверхность образца, вызывая интерференцию при отражении от границ образца и слоем пленки. Отраженная световая волна регистрируется высокочувствительным спектральным детектором, который анализирует спектральный коэффициент отражения с помощью специализированного программного обеспечения. Это позволяет получить информацию о толщине пленки образца. Также можно извлечь дополнительные физические характеристики пленки, такие как показатель преломления (n), коэффициент экстинкции (k), отражательная способность (R) образца и коэффициент пропускания (T). Спектральный диапазон измерений охватывает в себе излучения от ультрафиолетового до ближнего инфракрасного диапазонов.
EH100 подходит для рутинных измерений в промышленности и научных исследованиях и может применяться в различных процессах нанесения пленочных покрытий, таких как химико-механическая полировка (Chemical-mechanical polishing – CMP), химическое осаждение из газовой фазы (Chemical vapor deposition – CVD), вакуумное напыление (physical vapor deposition – PVD, процесс покрытия пленки методом центрифугирования (Spin Coating) и т.д.
Модель |
EH100 |
Спектральный диапазон |
U:245 – 1000 нм UI :245 – 1700 нм NIR:950 – 1700 нм V:370 – 1000 нм VI:370 – 1700 нм |
Спектральное разрешение |
200 – 1000 нм:1.6 нм
900 – 1700 нм:3.2 нм |
Размер измеряемого образца |
4″ (100 мм), 8″ (200 мм) или 12″ (300 мм), в зависимости от конфигурации прибора |
Размер светового пятна |
1,5 мм |
Диапазон измерения толщины пленки
(Только при измерении толщины пленки): |
U:1 нм – 40 мкм
UI:1 нм – 250 мкм V:15 нм – 100 мкм VI:15 нм – 250 мкм NIR:100 нм – 250 мкм |
Количество измеряемых слоев |
от 1 до 4 |
Точность |
2 нм или 0,4%
(Для образцов SiO2 на подложке Si) |
Время однократного измерения |
1-2 секунды |
Предметный столик |
100 мм x 100 мм (повторяемая точность измерения 2мкм) 200 мм x 200 (повторяемая точность измерения 2мкм) 300 мм x 300 (повторяемая точность измерения 2мкм) |
Серия MUL-S – это высокоточный, быстродействующий спектроскопический эллипсометр […]
Запрос цены ПодробнееЛазерный эллипсометр серии LS – это многоугловой лазерный эллипсометр, […]
Запрос цены Подробнее