Описание Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр (XPS)

        Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр (РФЭС, XPS) состоит из основной и загрузочной камер для образцов. Основная камера оснащена полусферическим анализатором, двух-анодным (Al, Mg) источником рентгеновского излучения, аргон-ионным источником, устройством для нейтрализации заряда, четырех-координатным столиком для образцов.

Особенности:

• ≥4,2 Mcps, FWHM = 1,0 эВ, Ag 3d5/2, Al Ka
• ≥11 Mcps, FWHM = 1,5 эВ, Ag 3d5/2, Al Ka
• Тип детектора MCP+CCD 2D детектор, радиус анализатор 150мм
• Энергетическое разрешение ≤50 мэВ FWHM @ 2 эВ Pass energy, 9.0 эВ Кинетической энергии
• Диапазон кинетической энергии 0,5 ~ 1500 эВ
• Четырех-координатный столик (XYZ: 10 x 10 x 100 мм, ±90°)
• Рентгеновский источник с двумя мишенями (Al, Mg)
• Аргоновая пушка (200 ~ 5000 эВ, до 20мкА)
• Система нейтрализации заряда

Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS) является методом анализа поверхности материалов, основанным на взаимодействии рентгеновских лучей с атомами и молекулами. Основной принцип метода заключается в измерении энергии и интенсивности фотоэлектронов, испускаемых при воздействии рентгеновского излучения на поверхность образца.

Одной из особенностей XPS является его высокая поверхностная чувствительность. Метод позволяет анализировать только верхние слои образца, толщиной до нескольких нанометров. Это делает XPS особенно полезным для исследования поверхностных свойств материалов, таких как химический состав, степень окисления, электронная структура и др.

Еще одной важной особенностью XPS является его высокая химическая специфичность. Метод позволяет идентифицировать элементы, присутствующие на поверхности образца, и определять их химическое состояние. Это достигается путем анализа энергии связи фотоэлектронов, которая зависит от химической природы атома или молекулы, из которых они исходят.

Другой важной особенностью XPS является его высокая энергетическая разрешающая способность. Метод позволяет различать фотоэлектроны с разными энергиями с высокой точностью, что позволяет определять даже небольшие изменения в химическом состоянии поверхности образца.

Таким образом, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия является мощным методом анализа поверхности материалов, обладающим высокой поверхностной чувствительностью, химической специфичностью и энергетической разрешающей способностью. Он находит широкое применение в различных областях науки и техники, таких как материаловедение, катализ, нанотехнологии и др.